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1.测量台、曝光台:它是一个承载硅片的工作台。

2.激光器:即光源,光刻机中的核心设备之一。

3.光束校正器:校正光束的入射方向,使激光束尽可能平行。

4.能量控制器:控制最终照射在硅片上的能量,曝光不足或曝光过度都会严重影响成像质量。

5.光束形状设置:将光束设置成不同的形状,如圆形和环形,不同的光束状态有不同的光学特性。

6.着色器:当不需要曝光时,它阻止光束照射硅片。

7.能量检测器:检测光束最终入射能量是否满足曝光要求,并反馈给能量控制器进行调整。

8.面具:一块刻有电路设计的玻璃板,价格高达数十万美元。

9.掩膜台:承载掩膜移动的设备,移动控制精度为nm。

10.物镜:物镜用于补偿光学误差,等比例缩小电路图。

1.硅晶片:由硅晶体制成的晶片。硅片有很多种尺寸。尺寸越大,产量越高。题外话,因为硅片是圆的,所以需要在硅片上切一个缺口来确认硅片的坐标系。根据槽口的形状,有两种,分别是平的和槽口的。

12.内部封闭框架和减震器:将工作台与外界环境隔离,保持水平,减少外界振动干扰,保持温度和压力稳定。

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